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本发明涉及真空镀膜技术领域，具体公开了一种蒸发台的基板固定器调节系统、方法及蒸发台，其中，蒸发台的基板固定器调节系统包括基板固定器、第一旋转机构、升降机构、称重机构和控制器，控制器用于通过称重机构获取坩埚的质量变化信息，还用于通过质量变化信息及预设的金属特性信息获取液位变化信息，并根据液位变化信息控制升降机构驱动调节基板固定器的高度以使基板固定器与坩埚中金属液面的距离保持在预设范围内；该调节系统能控制升降机构调节基板固定器的高度以补偿液位变化信息产生的基板固定器与坩埚中金属液面的距离变化值，使得
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116988037 A
(43)申请公布日 2023.11.03
(21)申请号 202311242139.2
(22)申请日 2023.09.25
(71)申请人 广州市艾佛光通科技有限公司
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