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二元光学器件的无掩模光刻实验研究 摘要 如今，大规模集成电路工艺发展日渐成熟，还有很大的提升空间，芯片集成度越来越高，但是减少芯片面积，提高生产效率的需求依然不减。光刻技术是集成电路工艺的重要一步，在基片上用光学方法刻上所需要的形状。但是传统光刻技术所需的掩膜板成本越来越高，这使得掩膜制造变得困难，整个掩模行业前景并不明朗，在光刻中如何降低掩模成本，采用无掩模光刻技术己成为光刻业界热门的话题。 无掩模光刻技术主要可以分为光学光刻和电子束光刻两种，光学光刻技术应用更为广泛。本文利用数字无掩模光刻技术,详细讲述一种基于DMD的无掩模光刻技术，无须制造昂贵的掩膜图形，而是利用DMD空间光调制器在设