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用于高形貌选择性的自停止性抛光组合物与方法.pdfVIP

用于高形貌选择性的自停止性抛光组合物与方法.pdf

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    本发明提供化学机械抛光组合物，其包含：(a)选自氧化铈研磨剂、氧化锆研磨剂及其组合的研磨剂；(b)选自式(I)化合物的自停止剂；(c)任选的非离子聚合物；(d)阳离子单体化合物；及(e)水，其中该抛光组合物的pH值为约5.5至约8。本发明还提供使用所述组合物来化学机械地抛光基板、尤其是包含硅氧化物及任选的多晶硅的基板的方法。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117120563 A (43)申请公布日 2023.11.24 (21)申请号 202180094136.1 M ·威尔霍夫　 (22)申请日 2021.12.21

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