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本实用新型提供的一种用于解决有机金属纳米银沉积色差的预浸池,由于在靠近所述入料段S1的所述沉积段S2,在所述上滚轮组件之间和下滚轮组件之间分别间隔设置有若干孔式上喷洒机构和孔式下喷洒机构,以及,在沉积段S2上还设有若干槽式上喷洒机构和槽式下喷洒机构,孔式上喷洒机构或孔式下喷洒机构首先喷洒压力药水,以用于破坏铜面的水膜,喷到基板上,槽式上喷洒机构或槽式下喷洒机构再进一步喷洒药水以便OM‑Ag均匀沉积,这样前后相互组合作用,从而改进改善了OM‑Ag沉积过程中因铜面水膜的残留,不会干扰OM‑Ag沉积的
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 220116672 U
(45)授权公告日 2023.12.01
(21)申请号 202321451966.8
(22)申请日 2023.06.08
(73)专利权人 确信乐思化学 (上海)有限公司
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