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公开了一种用于化学机械抛光的抛光垫，其包含：抛光层，所述抛光层包含聚合物基质，所述聚合物基质是异氰酸酯封端的低聚物或聚合物与包含单芳香族多胺固化剂和具有两个或更多个芳香族环的多胺固化剂的固化剂共混物的反应产物，其中所述聚合物基质具有硬链段域和软链段域，其中在所述聚合物基质中存在孔隙，此类孔隙是由预膨胀的流体填充的聚合物微球膨胀形成的，此种膨胀在所述异氰酸酯封端的低聚物或聚合物与所述单芳基胺固化剂和所述多芳基胺固化剂反应的期间发生，其中所述孔隙具有单峰尺寸分布，并且其中所述抛光层具有小于0.70g
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117207058A
(43)申请公布日2023.12.12
(21)申请号202310626337.2B24D3/34(2006.01)
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