一种高斯分布电子束束斑尺寸的测量方法和系统.pdfVIP

一种高斯分布电子束束斑尺寸的测量方法和系统.pdf

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本发明公开了一种高斯分布电子束束斑尺寸的测量方法,包括步骤:将电子束以直线路径扫描刀口,并在扫描的过程中检测电子束状态信号和电子束扫描距离;电子束状态信号包括散射电子信号强度或透过刀口的电子束功率;其中直线路径与所述刀口的布置方向呈夹角θ,夹角θ的范围为5°~30°;根据电子束状态信号和电子束扫描距离,得到电子束的束斑直径。本发明还公开了一种高斯分布电子束束斑尺寸的测量系统。相比于现有的扫描方法,本发明的测量方法可以增加扫描路径的长度,减小刀口边缘电子累计效应影响,减小测量误差,成本低、步骤简单

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117373885A

(43)申请公布日2024.01.09

(21)申请号202311274279.8

(22)申请日2023.09.27

(71)申请人中国电子科技集团公司第四十八研

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