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成膜方法和成膜装置.pdfVIP

成膜方法和成膜装置.pdf

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    本公开提供一种成膜方法和成膜装置，是能够在制造氮化硅膜时恰当地控制期望的金属的掺杂量的技术。成膜方法用于在基板上形成掺杂了期望的金属的氮化硅膜。该成膜方法包括以下工序：工序(a)，向收容有所述基板的处理容器的内部供给含硅气体；工序(b)，向所述处理容器的内部供给含有所述期望的金属的含金属气体；以及工序(c)，在所述工序(a)进行至少一次并且将所述工序(b)进行至少一次之后，向所述处理容器的内部供给含氮气体。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117364056A

    (43)申请公布日2024.01.09

    (21)申请号202310762987.X

    (22)申请日2023.06.27

    (30)优先权数据

    2022-110733202

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