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全球市场研究报告
全球市场研究报告
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光学临近校正(OPC)软件全球市场总体规模
光学邻近校正(OpticalProximityCorrection,OPC)是计算光刻中最重要一环,应用于光刻掩膜板优化,是保证硅片最终图像不失真的必需软件,也是决定产品良率的最重要环节。反演光刻技术(InverseLithographyTechnology,ILT)也叫逆向光刻技术、反向光刻技术,是新一代的计算光刻技术,是以硅片上要实现的图形为目标,反演计算出掩模版上所需要图形的算法。目前我国企业东方晶源已采用GPU加速计算及全芯片ILT技术进行掩模优化的解决方案,通过深度学习和大数据对光刻制程精确建模,优化工艺窗口,确保良率。
光学临近校正(OPC)软件,全球市场总体规模
如上图表/数据,摘自QYResearch必威体育精装版报告“全球光学临近校正(OPC)软件市场研究报告2023-2029.
据QYResearch调研团队必威体育精装版报告“全球光学临近校正(OPC)软件市场报告2023-2029”显示,预计2029年全球光学临近校正(OPC)软件市场规模将达到7.8亿美元,未来几年年复合增长率CAGR为14.1%。
全球光学临近校正(OPC)软件市场前五强生产商排名及市场占有率(基于2022年调研数据;目前必威体育精装版数据以本公司必威体育精装版调研数据为准)
如上图表/数据,摘自QYResearch报告“全球光学临近校正(OPC)软件市场研究报告2023-2029,排名基于2022数据。目前必威体育精装版数据,以本公司必威体育精装版调研数据为准。
根据QYResearch头部企业研究中心调研,全球范围内光学临近校正(OPC)软件生产商主要包括Brion(ASML)、KLA、Mentor(Simens)、Synopsys、Samsung、AnchorSemiconductor、GenISysGMBH、武汉宇微光学、墨研计算、深圳国微芯等。
2022年,全球前五大厂商占有大约82.3%的市场份额,市场高度集中。目前,全球核心厂商主要分布在欧洲。
随着大规模集成电路技术的发展,对光刻分辨率的要求也越来越高。分辨率增强技术随之变得愈发重要。在分辨率增强技术发展过程中,OPC等计算光刻软件的重要性越来越突出,在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前,都必须采用OPC软件进行优化。没有OPC,所有IC制造厂商将失去将芯片设计转化为芯片产品的能力,而采用相移掩模技术和光学邻近效应修正技术相结合可以使193nm波长ArF准分子激光光源的光刻精度提高到40nm工艺节点,再加上浸没式透镜曝光技术和两次曝光技术的应用可进一步提高到22nm工艺节点,甚至有可能在16nm工艺节点得到应用。
QYResearch企业简介
QYResearch(北京恒州博智国际信息咨询有限公司)成立于2007年,总部位于美国洛杉矶和中国北京。经过连续16年多的沉淀,QYResearch已成长为全球知名的、面向全球客户提供细分行业调研服务的领先咨询机构;业务遍及世界160多个国家,在全球30多个国家有固定营销合作伙伴,在美国、日本、韩国、印度等有分支机构,在国内主要城市北京、广州、长沙、石家庄、重庆、武汉、成都、山西大同、太原、昆明、日照等地设有办公室和专业研究团队。
QYResearch是全球知名的大型咨询公司,行业涵盖各高科技行业产业链细分市场,横跨如半导体产业链(半导体设备及零部件、半导体材料、集成电路、制造、封测、分立器件、传感器、光电器件)、光伏产业链(设备、硅料/硅片、电池片、组件、辅料支架、逆变器、电站终端)、新能源汽车产业链(动力电池及材料、电驱电控、汽车半导体/电子、整车、充电桩)、通信产业链(通信系统设备、终端设备、电子元器件、射频前端、光模块、4G/5G/6G、宽带、IoT、数字经济、AI)、先进材料产业链(金属材料、高分子材料、陶瓷材料、纳米材料等)、机械制造产业链(数控机床、工程机械、电气机械、3C自动化、工业机器人、激光、工控、无人机)、食品药品、医疗器械、农业等。
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