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本发明公开了一种晶体生长装置,包括:坩埚;提拉装置,沿所述坩埚的轴线方向可移动的贯穿于所述坩埚的顶部;以及生长模具,包括变径段,所述变径段包括位于所述坩埚内且沿所述坩埚的轴线方向相邻设置的第一缩径段和第一扩径段,所述第一缩径段和第一扩径段均为筒状结构且均沿所述坩埚的轴线方向延伸,所述第一缩径段具有靠近所述坩埚的顶壁的第一端和远离所述顶壁的第二端,所述第一缩径段的内径由所述第一端向所述第二端减小,所述第一扩径段具有靠近所述顶壁的第三端和远离所述顶壁的第四端,所述第一扩径段的内径由所述第三端向所述第
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117448945A
(43)申请公布日2024.01.26
(21)申请号202311439483.0
(22)申请日2023.10.31
(71)申请人湖南三安半导体有限责任公司
地址
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