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本发明属于半导体设备技术领域,公开了一种垂直度调整装置及垂直度调整方法。该垂直度调整装置包括第一调整环和第二调整环,第一调整环和第二调整环均具有相对设置的第一表面和第二表面,第一表面为倾斜面,第一调整环的第一表面和第二调整环的第一表面相互贴合,且第一调整环和第二调整环能相对转动,第一调整环和第二调整环的侧面均设置有多个间隔设置的计量部。本发明提供的垂直度调整方法采用上述的垂直度调整装置。本发明提供的垂直度调整装置,通过转动第一调整环和第二调整环,使贴合后的第一调整环的第二表面和第二调整环的第二表
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117542789A
(43)申请公布日2024.02.09
(21)申请号202311492450.2
(22)申请日2023.11.10
(71)申请人上海御微半导体技术有限公司
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