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摘要离子注入是半导体掺杂以及改性的一个常用工艺。相比于其他传统的掺杂方法，离子注入技术属于纯物理过程，掺杂过程除了掺杂元素不会引入任何其他杂质元素。此外，具有较好的可控性和可重复性。本文主要介绍了：（1）离子注入技术的工作原理，装置系统和发展状况；（2）半导体材料的基本概念及应用；（3）离子注入技术在半导体材料领域的研究与发展。关键词：离子注入；半导体材料；半导体掺杂
第1章序言
半导体材料以其独特的优势和非凡的特性成为现代技术发展的基础，因此也自然而然的受到人们的普遍关注。它是人们福音，在各方面造福我们大家，尤其是在通信技术方面；大容量信息处理方面，比如集
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