磁控溅射镀膜原理及工艺课件.pptx

磁控溅射镀膜原理及工艺课件目录?磁控溅射镀膜原理?磁控溅射镀膜设备?磁控溅射镀膜工艺?磁控溅射镀膜的应用?磁控溅射镀膜的未来发展磁控溅射镀膜原理溅射现象及基本原理溅射现象在电场的作用下，荷能粒子轰击固体表面，使固体原子或分子从表面射出的现象。溅射基本原理通过荷能粒子轰击固体表面，使固体原子或分子获得足够的能量，克服表面势垒而从表面射出。溅射产额溅射出来的粒子与入射粒子的比值。磁控溅射原理磁场控制偏压控制溅射粒子传输通过引入磁场来控制电场分布，提高等离子体密度和均匀性，从而提高镀膜质量和沉积速率。通过在基片上施加负偏压，吸引带正电的离子，加速离子对基片的轰击，提高膜层的致密度和结合力。