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FePt基磁性薄膜的超快自旋动力学研究的开题报告

一、研究背景和意义

随着信息技术的不断发展，磁性储存器作为一种数据存储介质，其存储密度和读写速度的要求也不断提高。为了满足这些要求，需要开发新的材料和理解材料中的自旋动力学。

Pt基磁性薄膜是一种有望应用于高密度磁性存储器的材料。其中，FePt合金材料因其高矫顽力和高饱和磁化强度而备受关注。然而，由于该材料的自旋弛豫动力学特征非常复杂，因此需要深入的探究其自旋动力学与应力,温度等参数的关系，以实现该材料在磁性储存领域的应用。

二、研究目的

本研究旨在研究FePt基磁性薄膜的超快自旋动力学，包括探究其自旋磁动力学行为及其与应力、温度等参数的关系。通过对这些关系的深入理解，为该材料在磁性储存领域的应用提供有力的理论基础。

三、研究方法和技术路线

1.制备FePt基磁性薄膜。采用磁控溅射技术，在硅衬底上制备FePt基磁性薄膜。

2.超快光激发技术。使用飞秒激光器对样品进行超快激发，并通过时间分辨光学谱学技术和磁光学效应测量样品的光学和磁学响应。

3.控制应力和温度等参数。通过压力器和加热器控制样品的外部应力和温度等参数。

4.数据处理和分析。采用计算机模拟和数据分析技术，对实验数据进行处理和分析，探究FePt基磁性薄膜的自旋动力学行为与外部参数之间的关系。

四、预期研究成果

1.探究FePt基磁性薄膜的自旋动力学行为和自旋动力学特征。

2.研究外部应力和温度等参数对FePt基磁性薄膜自旋动力学的影响和调控。

3.提供关于FePt基磁性薄膜在磁性储存领域应用的理论支持，并为相关磁性材料的研究提供参考。

五、研究进度安排

第一年：准备工作及制备FePt基磁性薄膜；建立激光光学实验系统，对样品进行超快光激发和测量响应；进行数据处理和模拟计算。

第二年：进一步探究FePt基磁性薄膜的超快自旋动力学特征；分析外部应力和温度等参数及其对自旋动力学的影响；开展多重相关性分析和数据综合。

第三年：总结分析结果，撰写研究论文，完成毕业论文的答辩。

六、研究重点和难点

研究重点：了解FePt基磁性薄膜的自旋动力学行为和自旋特征。

研究难点：探究外部应力和温度等参数对FePt基磁性薄膜自旋动力学的影响，及数据综合分析方法。