表面处理PVD电泳喷涂工艺.docx

一、常见电泳漆特性

产品名称用途及特性

高性能阳极电泳漆

高透明度及饱满度，具有特别光泽及透明性，涂装后具有高度立体效果，底材颜色表露无遗。

高硬度，温度为170℃烘烤时，硬度可达到4H。

好流平性，漆膜感强，漆膜滑感好。

强结合力及渗透力，涂料无孔不入，湿膜及干膜结合力强。

耐变色及防腐性能佳，产品色泽持久艳丽，耐腐效果绝佳。

电泳均一性好，漆膜均匀平坦。

耐冲击及耐人工汗性能好。

应用范围广，可用于金属电镀件，贵金属饰件，灯具，钟表，眼镜，火机饰品，手机片、锁具及高档家具五金件的表面防护装饰。

与各种色浆配套可电泳出K金色、咖啡色、枪黑色、红、蓝，绿等各类颜色。

与哑光离子配合，可达到半哑的各种效果。ELECTROCLEAR2000阴极电泳漆

1、漆膜有很好的光泽度、透明性及硬度。

2、非常适合于各类金属、合金或电镀底材的电泳涂装。

3、溶液稳定可靠、工艺操作简单、维护容易。EC-6200阴极电泳漆

1、硬度可达3-5H。

2、适用于多数金属的装饰、防蚀和防变色处理。EC-6800阴极电泳漆

1、适用于金、银、镍、铜及其合金等各种底材。

2、漆膜具有极好的亮度和硬度，厚膜之下也无桔皮之忧。

3、工艺稳定，操作简单，维护容易。高亮度EC-6110黑色电泳漆

1、热重损失低。

2、低炉烟。

3、不影响漆面黄变性。

4、高光泽度及低光泽变化率。

5、平坦性优良、操作电压低。

6、溶剂使用量低。

二、镀铜工艺简介

产品名称用途及特性

DT-Cu无氰碱铜

1、在钢铁及锌合金上可直接点镀铜。

2、溶液成分简单、稳定，容易操作。

3、镀层结合力好，深镀能力好，取代剧毒的氰化镀铜。T2高效率碱性光亮镀铜工艺

1、铜镀层结晶细致，均匀及光亮。

2、电流密度范围宽，覆盖能力极佳。

3、有机或无机杂质容忍度高，易于控制。

4、适用于不同基体的工件，尤为适合于锌合金铸件。

5、镀液可用氰化钾或氰化钠配方，效果同样理想。高效单一酸铜光剂ＣＵ－８０

1、铜镀层结晶细致，出光快，均匀及镜面光亮。

2、电流密度范围宽，覆盖能力极佳。

3、有机或无机杂质容忍度高，单一添加，易于控制。

4、适用于不同基体的工件，没有针孔．麻点之忧。

5、适于高档塑料电镀及饰品电镀.

铜发黑液—EB

仿古效果好；

使用寿命长，生产成本低；

无异味、改善劳动条件；

室温浸渍、操作简便。

Cu69碱性半光亮镀铜工艺

l、Cu69碱性半光亮镀铜工艺能在沉锌后的铝及铝合金表面镀出细腻.平滑的铜镀层,在长时间电镀下，镀层亦呈柔软光亮而不粗糙

2、经Cu69工艺打底电镀的铝及铝合金产品，能最大限度地避免了结合力不佳现象的产生，高温烘烤不起泡高光泽、耐冲击、可电镀等特性

三、PVD简介

PVD的含义—

PVD是英文PhysicalVaporDeposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。

PVD镀膜和PVD镀膜机—

PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。对应于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。

近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是最快的，它已经成为当今最先进的表面处理方式之一。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。

PVD镀膜技术的原理—

PVD镀膜（离子镀膜）技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

PVD镀膜膜层的特点—

采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。

PVD镀膜能够镀出的膜层种类—

PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。

PVD镀膜膜层的厚度—

PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm～1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。

PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色种类—

PVD镀膜目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。