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2024-05-22 发布于四川
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本实用新型提供了一种真空镀膜装置，涉及真空镀膜技术领域。本实用新型的真空镀膜装置用于制备复合薄膜。该真空镀膜装置可以包括第一镀膜辊、第一壳体和第一脆性材料靶。其中，第一壳体设置在所述第一镀膜辊外侧第一脆性材料靶位于所述壳体内，第一脆性材料靶具有第一预设溅射镀区域，并且第一预设溅射镀区域与第一壳体的位于第一镀膜辊的中间水平线以上部分的重合区域在竖直平面上的投影与第一镀膜辊在竖直平面的投影相互分离。满足了在第一壳体内的脆性材料掉落时不会掉落至基材层上，避免了基材层产生孔洞，提高了产品的良品率。

(19)国家知识产权局

(12)实用新型专利

(10)授权公告号CN220986309U

(45)授权公告日2024.05.21

(21)申请号202322465609.3

(22)申请日2023.09.12

(73)专利权人苏州迈为科技股份有限公司

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