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2024-05-25 发布于四川
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一种基座组件及等离子体处理装置.pdf

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本发明公开了一种基座组件，包括：用于承载基片的基座，所述基座的边缘具有一环形台阶；所述环形台阶上方设置有一聚焦环；至少一个导光通道，设置在所述基座内部，所述导光通道具有一朝向所述聚焦环的出口；所述导光通道内安装有透光材料，所述透光材料的一端连接激光发生器，另一端通过所述出口朝向所述聚焦环，用于传输激光对所述聚焦环进行加热。同时，本发明还公开了一种等离子体处理装置。本发明实现了对聚焦环的主动连续控温，使聚焦环的温度控制和调节更为准确精细，并且实现了对聚焦环温度的实时控制，从而提升了基片的刻蚀均匀度

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN118073161A

(43)申请公布日2024.05.24

(21)申请号202211475297.8

(22)申请日2022.11.23

(71)申请人中微半导体设备（上海）股份有限公

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