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本实用新型公开了一种极片及电池。极片包括集流体和涂层,涂层包括活性颗粒,活性颗粒具有设定的粒径d,集流体设置有涂层,涂层设置有凹槽,凹槽由刻蚀形成。凹槽具有设定的深度D、宽度K,相邻凹槽之间具有设定的间距H,涂层具有设定的长度L、宽度W、和厚度A,其中,涂层的厚度与凹槽的深度同向,涂层的长度与凹槽的宽度同向,凹槽的排列方向与涂层的长度方向或者宽度方向同向。本申请通过粒径d来限制厚度D、宽度K以及间距H的大小,能够在确保涂层具有足够的比表面积的基础上,尽可能保护活性颗粒的完整性,以确保刻蚀开槽所带
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN221008979U
(45)授权公告日2024.05.24
(21)申请号202322506639.4
(22)申请日2023.09.14
(73)专利权人惠州锂威新能源科技有限公司
地址
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