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提供一种新型的钨系喷镀覆膜和用于获得该喷镀覆膜的喷镀材料,所述钨系喷镀覆膜适合作为使用卤素气体的等离子体蚀刻装置用构件等。一种喷镀覆膜和具有该喷镀覆膜的等离子体蚀刻装置用构件,所述喷镀覆膜的特征在于,其含有钨作为基质相,且含有包含硅和硼的氧化物作为分散相。一种喷镀用材料,其特征在于,其包含1~7重量%的硅、0.5~3重量%的硼,且包含钨和不可避免的杂质作为余量。一种喷镀该喷镀用材料来制造喷镀覆膜的方法。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN115244209A
(43)申请公布日2022.10.25
(21)申请号202180019377.X(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事
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