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本实用新型公开了一种双端面研磨机下研磨盘控制机构,涉及研磨机技术领域,旨在解决研磨盘在加工完毕后,其表面存有杂质,不及时清理,影响后续加工质量的问题,采用的技术方案是包括底座,底座的顶面设有支撑件,支撑件上设有升降机构,升降机构上设有清扫机构,且清扫机构上设有防护机构;通过升降机构控制清扫机构升起,在完成加工作业后,升起的清扫机构,在驱动电机的带动下,通过驱动齿轮与环形齿轮之间啮合,使环形齿轮在弧形槽内旋转,同时清扫件通过连接杆从收集槽中升起,并使清扫件底部的毛刷与下研磨盘之间处于一个平行状态,
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220994060U
(45)授权公告日2024.05.24
(21)申请号202420728838.1
(22)申请日2024.04.10
(73)专利权人新乡市中研精密设备有限公司
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