热烘干机周期性保养.docxVIP

PAGE

PAGE1

PAGE3热烘干

PAGE3

PAGE

PAGE2

毕业设计报告

课题：热烘干机周期性保养

院系：南京信息职业技术学院

微电子系

专业：光电技术应用

班级：31621P

姓名：王帅鹏

学号：31621P18

指导老师：陈红

2018．12.15

目录

16634_WPSOffice_Level1热烘干机周期性保养 4

18354_WPSOffice_Level1前言 4

17774_WPSOffice_Level11，热烘干机 5

20990_WPSOffice_Level12，机台定期的PM 6

18354_WPSOffice_Level2（1）解决问题是需要注意报警内容和产品所处，一般要破真空时，一定要将产品完整的退出 6

17774_WPSOffice_Level2（2）U型夹片器臂有问题时，工作人员要到现场查看传片位置，确保产品的完整性， 6

20990_WPSOffice_Level2（3）发生高温泄露问题时，查看内部产品的情况，拿出后要进行清理 6

25071_WPSOffice_Level2（4）元器件发生问题时要停机进行检验 6

31849_WPSOffice_Level21，PM前要做好pmpart准备： 6

19590_WPSOffice_Level22，down机台前准备 6

16964_WPSOffice_Level23，vent之前的准备： 7

8383_WPSOffice_Level24，PM开始 7

12383_WPSOffice_Level25，PM结束，机台恢复 7

25071_WPSOffice_Level13，机台manual测p/t（wafer上颗粒的数量） 8

31849_WPSOffice_Level14，机台cryopump（冷pump）运作原理 9

19590_WPSOffice_Level15，MCS使用方法和queve确认方法 9

441_WPSOffice_Level21.高压环境 10

18603_WPSOffice_Level22.部件的安放 10

20424_WPSOffice_Level21，测试的必要性： 11

16323_WPSOffice_Level22.调试进行一体化： 11

21579_WPSOffice_Level23，出气步骤： 11

19449_WPSOffice_Level24：问题点： 11

23823_WPSOffice_Level25，保存： 11

16964_WPSOffice_Level1结束语 12

8383_WPSOffice_Level1谢辞 13

12383_WPSOffice_Level1参考文献 13

热烘干机周期性保养

前言

进入21世纪以来，半导体行业在世界各个科技都密切相关，各个国家的半导体企业应运而生。而热烘干机是不可缺少的机器，而这种热烘干机正是目前国内难以制造的。即使我国需要大力发展半导体产业，提高设备的国际水平，从而使半导体芯片达到新的高度。主要外资公司有Hailishi,Intel,Qualcomm,MagnesiumLight,etc等，国内有Haisi,PurpleLight,Huarun,Huahong等。

然而，中国半导体工业仍然落后于美、日和韩。这不止是技术上的差异，而且因为大多数生产机器是由外国制造商进口的，被中国封锁。其中，大多数热烘干机是由美国AMAT和Asheri公司生产的。别的制造商技术远不及他们的标准。厂家生产的机器对国内售价昂贵。因为他们目前垄断了这个市场，我们自己的半导体国产化仅有不到百分之十五。目前，国产的设备只能生产28至14纳米。至此，半导体产业的市场值超过3千亿美元。从最初的20纳米到现在的7纳米工艺，仅仅过了数年时间。即便仍然许多企业都急于分一杯羹，真正崛起的企业并不多主要设备主要包括热烘干机，注入机、发光机、clean机。

热烘干拥有十分精准的uniformity和repeatability.。它对半导体的制造能造成较大的影响。在20世纪70年代，器件已经收缩，有的已经下降到1毫米以下，因此扩散技术似乎失控。它起到了连接前文和下文的作用。如果出现问题，所有前面的过程将被报废，后续的过程将不被执行，这将导致晶片（晶片）的报废，无可避免的造成损失。在这种严峻的背景下，热烘干技术才能充分发挥其长处。目前，热烘干技术主要用于掺杂结深小于1毫米的平面工艺。热烘干技术已成为半导体晶圆片中不能缺少的一项技术。

Nowadays,itcanbesa