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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利说明书
(10)申请公布号CN1666147A
(43)申请公布日2005.09.07
(21)申请号C3
(22)申请日2003.06.25
(71)申请人先进微装置公司
地址美国加利福尼亚州
(72)发明人C·E·塔贝里C·F·莱昂斯
(74)专利代理机构北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人戈泊
(51)Int.CI
G03F1/08
G03F7/09
权利要求说明书说明书幅图
(54)发明名称
使用无定形碳层改善光栅制造的方
法
(57)摘要
一种使用无定形碳层(130)来改善光
栅制造的方法包括:将包括一基板(110)、
一吸收剂(120)、一输送层(130)、一抗反射
涂层(140)、以及一光阻层(150)的叠层沉
积;将该光阻层(150)图案化(45);以及将
该ARC层(140)以及该输送层(130)蚀刻
(55,65)。该方法同样包括蚀刻(75)该吸收
剂层(120)以及移除(85)该输送层(130),该
输送层(130)包括无定形碳。
法律状态
法律状态公告日法律状态信息法律状态
权利要求说明书
1.一种用无定形碳层(130)来改善光栅的制造方法,该方法包含:
沉积(15,25,35)包括一基板(110)、一吸收剂(120)、一输送层(130)、一抗反射涂
层(140)以及一光阻层(150)的叠层;
图案化(45)该光阻层(150);
蚀刻(55,65)该抗反射涂层(140)以及该输送层(130);
蚀刻(75)该吸收剂层(120);以及
移除(85)该输送层(130),该输送层(130)包括无定形碳。
2.如权利要求1所述的方法,其中蚀刻(55,65)该抗反射涂层(140)以及输送层(130)
包括将该光阻层(150)移除。
3.如权利要求1所述的方法,其中蚀刻(75)该吸收剂层(120)包括将该抗反射涂层
(140)移除。
4.如权利要求1所述的方法,其中移除(85)输送层(130)包括灰化氧等离子体,该输
送层(130)包括无定形碳。
5.如权利要求1所述的方法,其中该输送层(130)具有5至200nm的厚度。
6.一种制造光栅的方法,包含:
图案化(45)置于一SiON层(140)与一无定形碳层上(130)的一光阻层(150);
以该图案化光阻层(150)为光罩而蚀刻(55,65)该SiON层(140)与该无定形碳层(130),
以及将配置于该无定形碳层(130)下的含金属层(120)曝光;
以该无定形碳层(130)做光罩而蚀刻该含金属层;以及
移除(85)该无定形碳层(130)。
7.如权利要求6所述的方法,其中以图案化光阻层(150)为光罩而蚀刻(55,65)该
SiON层(140)与该无定形碳层(130)以及将配置于该无定形碳层(130)下的含金属层
(120)曝光,包括在该无定形碳层(130)的蚀刻(75)期间内将该光阻层(150)移除。
8.如权利要求6所述的方法,其中该光阻层(150)具有400nm的厚度。
9.如权利要求6所述的方法,其中该无定形碳层(130)具有大约在30nm与100nm之
间的厚度。
10.如权利要求6所述的方法,其中以该无定形碳层(130)作光罩而蚀刻(75)该含金
属层(120)包括将该SiON层(140)移除。
说明书
技术领域
本发明主要涉及光刻法以及光刻图案化的方法。特别是涉及使用无定形碳层改善光
栅或光罩制造的方法。
背景技术
一般而言,光栅或者光罩是包含输送到晶圆的图案的光刻工具。在集成电路的领域
中,可将光栅归类为含有一个或者更多小芯片的图案的平板,但是无法大到能够一
次输送晶圆尺寸的图案。在集成电路的
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