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目 录
概述
构造特征与工作原理
主要性能指标
安装与调试
使用与操作
常见故障分析与排解
保养与修理
安全防护及处理
运输、贮存与开箱检查10重量与外形安装尺寸11附件清单
12文件资料
10
概述
PECVD设备的特点
利用高频电源辉光放电产生等离子体对化学气相沉积过程施加影响的技术被称为等
离子体增加CVD。电子和离子的密度达109~1012个/cm3，平均电子能量可达1~10ev。
成膜过程在真空中进展，大约在5~500Pa范围内。
由于等离子体存在，促进气体分子的分解、化合、激发和电离，促进反响活性基团
的生成，从而降消沉积温度。PECVD在
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