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p阱CMOS芯片制作工艺设计掺杂工艺参数计算
p阱CMOS芯片制作工艺设计
名目
一.设计参数要求 2
二. 设计内容 3
1:PMOS管的器件特性参数设计计算。 3
2:NMOS管参数设计及计算。 4
3:p阱CMOS芯片制作的工艺实施方案; 5
工艺流程 5
4.光刻工艺及流程图(典型接触式曝光工艺流程为例)
........................................................................12
5:掺杂工艺参数计算; 14
P阱参杂工艺计算 14
②PMOS参杂工艺计算 15
③NMOS参杂工艺
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