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MASK介绍与曝光机原理
Mask说明：
将mask上的图形通过曝光〔UV光〕，复制到玻璃基板上，通过显影等方式，形成CF图形。
mask样图：
Mask规格
一、mask 规格
适用范围
本规格书适用于清溢周密光电(深圳)为湖南普照爱伯乐显示器件 供给的苏打玻璃铬版。
铬版原材料工程材质
铬版原材料
工程材质
玻璃外形尺寸
玻璃基版厚度
规格
苏打玻璃
**
X
**
4.8±0.2
mm
mm
铬膜厚度
1000?±100?
反射率
10.0±5％(at436nm)
铬膜光学密度
3.0±0.3(at 450nm)
尺寸精度
工程
规格
产品区分
外形尺寸精度
CF
±1
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