加州分校工艺技术笔记lith参考源.pdfVIP

UCBerkeleyProcessTechnologyNotesMaintainedbyProfessorAndyNeureuther

Version01/18/03emailmailto:neureuth@eecs.berkeley.edu

GeneralLithographyReferences

Books:

JamesR.SheatsandBruceW.Smith,MicrolithographyScienceandTechnology,

MarcelDecker,1998,ISBN0-8247-9953-4.

HarryJ.Levinson,PrinciplesofLithography,SPIEPress,2001,ISBN0-9194-4045-0.

AlfredKwok-KitWong,ResolutionEnhancemetTechniquesinOpticalLithography,

SPIEPressVol.TT47,2001,ISBN0-8194-3995-9.

ChrisA.Mack,InsideProlith,Finletechnologies,1997.

HandbookofMicrolithography,Micromachining,andMicrofabrication.Volume1:

Microlithography(SPIEPRESS1997MonographVol.PM39)byP.Rai-Choudhury

(Editor)

Plummer,DealandGriffin,SiliconVLSITechnology:Fundamentals,Practiceand

Modeling,PrenticeHall,2000.ISBN0-13-085037-3(Chapter5)

加州大学伯克利分校工艺技术笔记版本01/18/03

一般光刻参考书籍：

JamesR.Sheats和BruceW.Smith，《微光刻科学与技术》，

MarcelDecker，1998年，ISBN0-8247-9953-4。

HarryJ.Levinson，《光刻原理》，SPIEPress，2001年，ISBN0-9194-4045-0。

AlfredKwok-KitWong，《光学光刻中的分辨率增强技术》，

SPIEPressVol.TT47，2001年，ISBN0-8194-3995-9。

ChrisA.Mack，《InsideProlith》，Finletechnologies，1997年。

微光刻、微加工和微加工手册。第1卷：

微光刻(SPIEPRESS1997专著第PM39卷)，作者：P.Rai-Choudhury

编辑)

Plummer、Deal和Griffin，《硅VLSI技术：基础、实践和建模》，PrenticeHall，2000年。ISBN0-13-085037-3（第5章）

由AndyNeureuther教授电子邮件mailto:neureuth@eecs.berkeley.edu