2023年全球及中国CMP设备行业重点企业市场竞争格局分析及未来市场发展趋势研究预测.docVIP

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2023年全球及中国CMP设备行业重点企业市场竞争格局分析及未来市场发展趋势研究预测

行业竞争格局分析：全球CMP设备市场主要由美国应用材料和日本荏原占据，处于高度垄断状态。根据中金企信数据，上述两家制造商的CMP设备全球市场占有率超过90%，尤其在14nm以下先进制程工艺产线上使用的CMP设备主要由美国应用材料和日本荏原两家国际巨头提供。中国大陆2022年CMP设备市场规模达6.66亿美元，但绝大部分高端CMP设备仍然依赖于进口，主要由美国应用材料和日本荏原两家提供。国内从事CMP设备业务的主要企业有北京晶亦精微科技股份有限公司及华海清科，其中公司是国产8英寸CMP设备的主要供应商，所生产的8英寸CMP设备已广泛应用于中芯国际、境内客户A、世界先进、联华电子等境内外先进集成电路制造商的规模化产线中。

中金企信国际咨询权威公布《2023版全球及中国CMP设备市场深度调研及投资可行性预测咨询报告》

2、行业主要企业：

（1）国际主要竞争对手分析：

1）美国应用材料：美国应用材料成立于1967年，系美国纳斯达克证券交易所上市公司（股票代码：AMAT.O），主要从事半导体设备的研发、生产、销售及服务，主要产品包括原子层沉积设备、化学薄膜沉积设备、电化学沉积设备、物理薄膜沉积设备、刻蚀设备、快速热处理设备、离子注入机、化学机械抛光设备等。美国应用材料是全球最大的半导体设备供应商之一。2022财年，美国应用材料实现营业收入257.85亿美元，净利润65.25亿美元。

2）日本荏原：日本荏原成立于1912年，系日本东京证券交易所上市公司（股票代码：6361.T），主要从事以泵等旋转机械为中心的开发活动，可具体分为三个部分：流体机械和系统；环境工程和精密机械，其精密机械产品包括干式真空泵，化学机械抛光系统；电镀系统和气体减排系统。日本荏原是日本和中国台湾的CMP设备最大供应商。2022财年，日本荏原实现营业收入51.19亿美元，净利润3.80亿美元。

（2）国内主要竞争对手概况目前，国内从事CMP设备制造业务的主要企业有公司及华海清科，除前述两家公司外，下文还列示了其余国内半导体设备行业主要企业：

1）华海清科：华海清科（股票代码：688120.SH）成立于2013年，主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售及技术服务，主要产品为12英寸CMP设备、减薄设备、供液系统、晶圆再生、关键耗材与维保服务。华海清科是一家拥有核心自主知识产权的半导体设备制造商。2022年度，华海清科实现营业收入16.49亿元，净利润5.02亿元。

2）中微公司：中微公司（股票代码：688012.SH）成立于2004年，主要从事集成电路、LED关键制造设备，核心产品包括：①用于IC集成电路领域的等离子体刻蚀设备（CCP、ICP）、深硅刻蚀设备（TSV）；②用于LED芯片领域的MOCVD设备。中微公司深耕芯片制造刻蚀领域，研制出了国内第一台电介质刻蚀机，是我国集成电路设备行业的领先企业。2022年度，中微公司实现营业收入47.40亿元，净利润11.68亿元。

3）北方华创：北方华创（股票代码：002371.SZ）成立于2001年，主要从事半导体基础产品的研发、生产、销售和技术服务，主要产品为电子工艺装备和电子元器件。公司电子工艺装备主要包括半导体装备（包括刻蚀、薄膜、清洗、热处理、晶体生长等核心工艺装备）、真空装备和新能源锂电设备，电子元器件主要包括电阻、电容、晶体器件、模块电源、微波组件等。北方华创是中国最大的电子装备生产基地和高端电子元器件制造基地。2022年度，北方华创实现营业收入146.88亿元，净利润25.41亿元。

4）芯源微：芯源微（股票代码：688037.SH）成立于2002年，主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售，产品包括光刻工序涂胶显影设备（涂胶/显影机、喷胶机）和单片式湿法设备（清洗机、去胶机、湿法刻蚀机）。芯源微生产的涂胶/显影机成功打破国外厂商垄断并填补国内空白，其中在LED芯片制造及集成电路制造后道先进封装等环节，作为国内厂商主流机型已成功实现进口替代。2022年度，芯源微实现营业收入13.85亿元，净利润2.00亿元。

5）盛美上海：盛美上海（股票代码：688082.SH）成立于2005年，主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售，主要产品包括半导体清洗设备、半导体电镀设备和先进封装湿法设备等。2022年度，盛美上海实现营业收入28.73亿元，净利润6.68亿元。

3、主要技术分析：

（1）亚纳米级全局平坦化技术：亚纳米级全局平坦化技术包括平坦化位移场追踪扫描技术、多区域柔性研磨组件技术、特殊材料研抛技术和增效平坦化技术。平坦化位移场追踪扫描技术结合研磨组件与修整器的多种动态运动方式，自动跟踪生成