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摘要
摘要
脉冲激光沉积（PLD）能够通过改变激光参数、加入背景气体、调节靶与衬底
间距和衬底温度对沉积过程进行控制，已作为一种潜在的技术运用于各种纳米薄
膜材料的制备。该技术具有较高的沉积速率和良好的兼容性，非常适用于氧化物薄
膜的沉积。然而，激光与固体样品靶的相互作用是一个复杂的过程，它由不同的阶
段组成：激光烧蚀靶材；等离子体生成；激光与等离子体相互作用；等离子体膨胀
与衬底进行作用。这些过程对薄膜生长都起着非常重要的作
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