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中航科技电子团队

2023年9月8日

光刻机深度:筚路蓝缕,寻光刻星火

行业评级:增持

分析师:刘牧野

证券执业证书号:S0640522040001

研究助理:刘一楠

证券执业证书号:S0640122080006

股市有风险入市需谨慎

中航证券研究所发布证券研究报告请务必阅读正文后的免责条款部分

核心观点

◼光刻为IC制造核心工艺,光刻技术的演进成就了摩尔定律。光刻工艺占IC制造1/2的时间+1/3的成本,在瑞利公式:=/的指导下,人类

1

在缩短波长,增大数值孔径NA,降低工艺因子三个方面展开探索,目前已实现13.5nm波长与达物理极限的,正在向0.55NAEUV迈步。为

11

了实现进一步制程微缩,业界多采用多重曝光工艺,但对光刻机的套刻精度、图形畸变、稳定性有更高的要求。10nm及以下时,ArFi+多重曝光的

复杂度急剧上升,经济性下降,EUV的出现使摩尔定律得以延续。

◼光刻机由三大核心系统,数万个零件组成,是产业链各环节顶尖公司通力合作的成果。1)光源方面,DUV采用准分子激光器,技术掌握在Cymer

和Gigaphoton手中,国内科益虹源打破垄断;EUV光源是通过高功率CO激光器轰击Sn滴而来,高功率激光器为核心组件。2)光学系统是光刻机

2

分辨率成像的保证,由照明系统和物镜系统构成,照明系统优化成像过程,实现分辨率增强;投影物镜系统将掩模图形聚焦成像,ZEISS为ASML关

键光学元件独供商,国内技术水平仍有较大差距。3)双工件台系统有效提高了光刻精度与效率,国内华卓精科和清华大学团队走在前列。

◼光刻重要性愈显,国内亟待0→1的突破。半导体行业十年翻倍,晶圆厂积极扩产,叠加芯片性能升级,光刻强度上升,预计5nm逻辑芯片的光刻支

出占比达35%,光刻工艺的重要性愈发凸显,市场规模快速增长,预计2024年有望达230亿美元,ASML在高端市场一枝独秀。2022年中国大陆光

刻机进口约40亿美元,主要从日本、荷兰进口,出口管制下光刻机存在断供隐忧,自主可控势在必行。依托举国之力,汇聚各科研院之所长,目前

已有阶段性成果陆续落地。光刻机产业化渐近,零部件投资先行,我们测算国内零部件市场空间约150亿元,市场空间大、技术关键性强。

◼建议关注:1)光刻机零部件:福晶科技、奥普光电、茂莱光学、福光股份、炬光科技、腾景科技、苏大维格、华卓精科(未上市)等;

2)光刻机周边配套:美埃科技、蓝英装备、芯源微、微导纳米等;3)光刻机相关材料:华懋科技、彤程新材、清溢光电、龙图光罩(未上市)等。

◼风险提示:国产光刻机研发及落地不及预期;需求疲软,晶圆厂扩产不及预期;竞争加剧的风险;出口管制进一步加剧的风险。

全文思路

光刻机行业深度:筚路蓝缕,寻光刻星火

1.1光刻为芯片制造的核心工艺,光刻机乃人类智慧的集大成者

1.2瑞利公式指导,、NA、不断演进

1

一、光刻技术演进

1.3多重曝光辅助实现制程微缩

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