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zno的基本性质和研究方法
摘要
ZnO是材料界最近流行的拥有很多优良品质的材料，它具有原材料价格便宜、对环境没有污染、易于制造，优良的性能。因此ZnO材料在不同领域的应用都引起了广泛关注，成为材料研究中的热门，并有望取代ITO薄膜。
本文主要研究zno薄膜的制备工艺和对其性能的影响。在Si片上用射频磁控溅射法通过ZnO陶瓷靶双靶磁控溅射制备Zno薄膜，通过改变溅射功率，溅射压强，以及回火处理分别得到不同的样品。并对所制备的薄膜进行XRD、SEM、力学性能的分析。研究发现在溅射功率70w、建设压强1.5pa时得到的薄膜质量最好，并且，zno薄膜在退火后，各项性能确实有一定一定程度的改善。
关
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