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Ti薄膜的制备以及性能表征
摘要
在现代社会快速发展时，磁控溅射随之快速发展成为了目前制备薄膜比较好的方法，相比其他镀膜的方法具有制备薄膜效率高、制备的薄膜纯度高而且磁控溅射易于用于工业大面积生产[1-3]。随着工业生产的发展及现代资源的发展需要，通讯，能源，材料，信息科学已经成为新时代技术创新的重中之重。整个光电子和传感器和通讯等主要精密的器件所用到的材料均为功能性较强的材料，都使用了薄膜技术。薄膜材料可以赋予材料的表面属性和整体材料完全不同的材料层，因为薄膜材料本身具有很强的可塑性，可以结合我们所需要的性能。因此，目前薄膜材料和薄膜技术已成为现代材料科学发展的重要组成部分。薄膜在
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