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磁控溅射参数对不锈钢薄膜性能的影响.docx

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    磁控溅射参数对不锈钢薄膜性能的影响

    摘要

    本次研究选用透明的玻璃片作为衬底材料，不锈钢作为靶材，直流磁控溅射法作为制备不锈钢薄膜的方法，对磁控溅射的真空度、氩气压强、溅射时间等三个参数对不锈钢薄膜性能的影响进行了深入的分析研究，并设计了磁控溅射不锈钢薄膜的工艺制备方案。

    本次课题在研究过程中引用了多篇论文中的实验数据，并根据数据规律，对不锈钢薄膜的性能进行了仔细地分析，分析发现真空度越高，在一定范围内氩气压强越低，溅射时间越长，薄膜质量越好。

    将本次课题研究设计的工艺参数与引用实验数据作对比，推测了采用QH-250镀膜机制备不锈钢薄膜的最佳工艺

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