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还原氢化工序工艺讲义
第一节工序划分及主要设备
一、三氯氢硅还原的工序划分
单元号工序名称
T1100/T1101三氯氢硅(TCS)蒸发
T1200/T1201四氯化硅(STC)蒸发
T100/T101还原
T200/T201氢化
T300硅芯拉制
T400硅芯腐蚀
T500破碎、分级
T600超纯水制取
T700实验室(分析检测中心)
T800/801钟罩清洗
T900冷却水循环系统
T1000HF洗涤
二、主要原辅材料及质量要求
物质纯度
三氯氢硅TCS≥99%(B≤0.1ppb;P≤0.1ppb)
四氯化硅STC≥98%
原氢气H≥99.999%
2
料Si≥99.999%;电阻率≥50Ω·cm(暂定);Φ5mm;
硅芯
长2m
石墨电极高纯
硝酸分析纯
氢氟酸优纯级或分析纯
洗涤剂
辅
氢氧化钠分析纯或化学纯
料
酸洗剂
氨基磺酸化学纯
超纯水电阻率>18M·Ω
三、主要设备
设备个数位号
T1100AB001/002
三氯氢硅(TCS)蒸发器
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