真空镀膜标准作业书SOP(更新).xlsVIP

TG1587

真空镀膜标准作业书

产品型号

颜色

作成日期

文件编码

版本

作成

审核

批准

LBD-AF

无色

HX-SOP-GX-SC-005

A2

■真空镀膜详细作业条件

类别

管理项目

详细说明

镀膜方式

E-BEAMEVAPORATION

利用阻蒸加热蒸发的真空镀膜

镀膜设备

1500/2050机型

28#

作业条件

轰击前真空度

6.0*E-3Pa

开启离子源前的真空度

轰击时离子源阳极电压

100V-120V

气体设为自动给气方式，轰击时间：5分钟

轰击时离子源阴极电流

4.1A

轰击时离子源阳极电流

4.0A

成膜初始真空度

5.0*E-3Pa

镀膜作业前的真空度

成膜真空度

4.0*E-3Pa~6.0*E-3Pa

不需要充氧

POWER

SiO2

150mA±50

AF-防水药

阻蒸电流200A±100

束流/电流

6.0?/s,扫描光斑调到最大,Toling:100%

AF

1.0-2.0?/s,扫描光斑调到最小,Toling:100%

镀膜数据

膜厚

Sio2(100?±10?)/AF(100-200?)

材料

SiO2

0.5~3mm、99.9%

20mm、99.9%

转架速度

25±5RPM

25±5Hz

作业时间

1周期（从上一炉开门到下一炉开门）

30Min

制修订/废止内容及说明

日期

A0

新制定

邹永桃

A1

修订全文

陈会

更改文件编码

2016.1.21

陈会

?2016?/?1?/?21

?2014?/?3?/?6

?2015?/?11?/?5