光刻机行业海外硬科技龙头复盘研究系列之九：国之重器，路虽远行则将至-240822-东兴证券-31页.pdf

业

研

究

光刻机行业：国之重器，路虽远行则将至2024年8月22日

看好/维持

东——海外硬科技龙头复盘研究系列之九电子行业报告

兴

证分析师刘航电话：021邮箱：liuhang-yjs@dxzq.net.cn执业证书编号：S1480522060001

券

股投资摘要：

份

有光刻机被誉为半导体工业皇冠上的明珠，光刻是半导体芯片生产中最复杂、关键一环。光刻机是芯片制造流程中的核心设备，

限其光刻的工艺水平直接决定芯片的制程、性能，被誉为半导体工业皇冠上的明珠。光刻是半导体芯片生产中最复杂、关键步

公骤，耗时长、成本高。光刻机原理类似相机照相，发出光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后发生

司性质变化，使图形复印到薄片上，使薄片具电子线路图作用。其中分辨率直接决定制程，是最重要的指标；套刻精度影响良

证率；生产效率影响产能及经济性。

券光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机，市场主流有i-Iine、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类。掩膜光刻机由光源发出光束，

研经掩膜板在感光材料上成像，又可分为接近、接触式及投影式，投影式为主流，还可分为UV、DUV、EUV。直写式光刻机

究用计算机控制光束投影至涂感光材料的基材上，无掩膜进行曝光，又可分为光学直写、带电粒子直写。直写光刻机在半导体

报应用领域窄，体量小，是掩膜光刻机的补充。市场主流光刻机有i-Iine、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类。

告

光刻机产业链上游所需零件设备众多复杂，下游半导体市场驱动行业发展。零件、组件和设备为上游供应。下游市场主要为

半导体市场，全球半导体市场规模稳步扩张，使光刻机需求稳步增长。受益于晶圆需求增长、服务器云计算与5G基础建设

发展，全球光刻机市场规模平稳增长，2023年全球光刻机市场规模增至271.3亿美元，预计2024年达295.7亿美元。2022

年全球光刻机销售结构以中、低端KrF、i-Iine为主，占比约71.5%，高端ArFi、ArF和超高端EUV占比较小，分别为15.4%、

5.8%和7.3%。

从全球光刻机竞争格局看，光刻机市场由国外企业主导。ASML占绝对霸主地位，2022年市场份额占比82.1%，Canon占

比10.2%，Nikon占比7.7%，上海微电子为国内唯一巨头。超高端光刻机EUV领域ASML独占鳌头，高端光刻机ArFi和

ArF领域也主要由ASML占领；Canon主要集中在i-Iine领域；Nikon除EUV外均有涉及。2022年光刻机国产化率仅2.5%，

上海微电子为国内唯一巨头。

复盘海外龙头ASML成长之路：四十载砥砺前行，成就全球光刻机龙头。1980年代ASML初出茅庐，与知名透镜制造商卡

尔蔡司建立合作。1990年代，ASML推出PAS5500，使ASML名声大噪。2000年代，双工作台、浸没式光刻技术助力ASML

成为行业绝对的龙头。2010年代，ASML第一台EUV光刻机问世，收购业内一众领先厂商。2020年代，ASML将EUV光

刻机推进至HighNA时代。

ASML光刻机产品全面丰富，浸入式行业领先，EUV为其独有。ASML拥有EUV、DUV两大光刻系统，DUV包括浸入式系

统、干式系统，EUV包括EXE、NXE。ASML浸入式在生产力、成像和覆盖性能方面处行业领先，适用最先进逻辑和内存

芯片的大批量生产。EUV技术为其独有。得益于NXE和DUV浸入式系统量价齐升，2023年ASML实现营业收入275.59

亿欧元，净利润78.39亿欧元。预测将于2025年实现约300亿欧元至400亿欧元的年销售额，毛利率约为54%至56%。

AS