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LCD工艺流程简述

一、前段工位：

ITO玻璃的投入（grading）——玻璃清洗与干燥（CLEANING）——

涂光刻胶（PRCOAT）——前烘烤（PREBREAK）——曝光（DEVELOP）

显影（MAINCURE）——蚀刻（ETCHING）——去膜（STRIPCLEAN）

【】——图检（INSP）——清洗干燥（CLEAN）

属于光科技术，详见百度百科

——TOP涂布（TOPCOAT）——UV烘烤（UVCURE）——固化（MAIN

CURE）——清洗（CLEAN）——涂取向剂（PIPRINT）——固化（MAIN

CURE）——清洗（CLEAN）——丝网印刷（SEAL/SHORTPRINTING）

——烘烤（CUPINGFURNACE）——喷衬垫料（SPACERSPRAY）——

对位压合（ASSEMBLY）——固化（SEALMAINCURING）

讲解：

1．ITO图形的蚀刻：（ITO玻璃的投入到图检完成）

A．ITO玻璃的投入：根据产品的要求，选择合适的ITO玻璃装入

传递篮具中，要求ITO玻璃的规格型号符合产品要求，切记ITO层

面一定要向上插入篮具中。

B．玻璃的清洗与干燥：将用清洗剂以及去离子水（DI水）等洗净

ITO玻璃，并用物理或者化学的方法将ITO表面的杂质和油污洗净，

然后把水除去并干燥，保证下道工艺的加工质量。

光刻技术（1.气相成底模2.旋转烘胶3.软烘4.对准和曝光5.曝光后烘焙（PEB）

6.显影7.坚膜烘焙8.显影检查）

C．涂光刻胶：在ITO玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶，涂

过光刻胶的玻璃要在一定的温度下作预处理：

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。

D．前烘：在一定的温度下将涂有光刻胶的玻璃烘烤一段时间，以使

光刻胶中的溶剂挥发，增加与玻璃表面的粘附性。

E．曝光：用紫外光（UV）通过预先制作好的电极图形掩模版照射光

刻胶表面，使被照光刻胶层发生反应，在涂有光刻胶的玻璃上覆盖光

刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光：（如图所示）

F．显影：用显影液处理玻璃表面，将经过光照分解的光刻胶层

除去，保留未曝光部分的光刻胶层，用化学方法使受UV光照射部

分的光刻胶溶于显影液中，显影后的玻璃要经过一定的温度的坚

膜处理

G．坚膜：将玻璃再经过一次高温处理，使光刻胶更加坚固。

H．刻蚀：用适当的酸刻液将无光刻胶覆盖的ITO膜蚀掉，这样

就得到了所需要的ITO电极图形，

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。

注：ITO玻璃为（In2O3与SnO2）的导电玻璃，此易与酸发生反

应，而用于蚀刻掉多余的ITO，从而得到相应的拉线电极。

I．去膜：用高浓度的碱液（NaOH溶液）作脱膜液，将玻璃上余

下的光刻胶剥离掉，从而使ITO玻璃上形成与光刻掩模版完全一

致的ITO图形。（即按客户要求进行显示的部分拉线蚀刻完成，如

图）

J．清洗干燥：用高纯水冲洗余下的碱液和残留的光刻胶以及其

它的杂质。

二、特殊制程：（TOP膜的涂布到固化后清洗）

一般的TN与STN产品不要求此步骤，TOP膜的涂布工艺是在光

刻工艺之后再做一次SiO2的涂布，以此把刻蚀区与非刻蚀区之间

的沟槽填平并把电极覆盖住，这既可以起到绝缘层的作用，又能

有效地消除非显示状态下的电极底影，还有助于改善视角特性等

等，因此大部分的高档次产品要求有TOP涂布。

三、取向涂布（涂取向剂到清洗完成）

此步工艺为在蚀刻完成的ITO玻璃表面涂覆取向层，并用特定的

方法对限向层进行处理，以使液晶分子能够在取向层表面沿特定

的方向取向（排列），此步骤是液晶显示器生产的特有技术。

A．涂取向剂：将有机高分子取向材料涂布在玻璃的表面，即采

用选择涂覆的方法，在ITO玻璃上的适当位置涂一层均匀的取向

层，同时对取向层做固化处理。（一般在显示区）

B．固化：通过高温处理使取向层固化。