无掩模光刻技术与应用研究.docx

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2024-09-08 发布于四川
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摘要

本文综述了数字无掩模光刻技术、激光直写技术、电子束光刻和激光干涉光刻技术的发展状况，并探讨了其原理、发展成果和在制造加工领域的重要性。相比传统的有掩模光刻技术，无掩模光刻技术无需掩模板，有制造周期短、更经济的优势。数字无掩模光刻技术通过数字化控制实现了高速、灵活的图案转移。激光直写技术能够实现微米级别的高精度加工，为微纳加工和光子学器件制造提供了支持。电子束光刻具有极高的分辨率，在科研领域展现了巨大潜力。激光干涉无掩模光刻技术具备更高的分辨率和高效制作周期性图案能力。未来，无掩模光刻技术在微纳加工和光子学器件制造领域有广阔的应用前景，但需解决图案形变、传输效率和加工精度以及完善相关