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设备介绍
溅射台
用途
金属材料的溅射工艺，以及必要的氧化物、氮化物的反应溅射工艺；
主要技术指标
靶材尺寸200X230mm；
可同时配备4个靶材；
本底真空优于5E-5Pa；
设备介绍
溅射台
用途
用于反应溅射沉积TiN和AlN。也可溅射纯金属Ti和Al。
主要技术指标
（1）真空系统：设备配有loadlock，分为两个进样腔，一个过渡腔，两个工艺腔。其中Ti与Al靶单独配有一个真空腔，并由一个分子泵和冷泵抽至高真空，极限真空可达7E-6Pa，本底真空可至1E-5Pa。
（2）气路配置：Ar、、N2、GN2。
（3）工艺参数：配备两个直流电源，功率范围可调，目前试有1KW，气体流量可调，目前范围为0~50sccm。温度范围可调，可由常温至800℃。
（4）样品要求：6寸及以下兼容，其中6寸以下样品需粘贴固定于6寸托盘上面。
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