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几种加热方式简介--第1页
石墨炉()
graphiteheater
石墨炉又称电加热石墨炉。是一个石墨电阻加热器,是原子吸收分光
光度计用无焰原子化器的一种。石墨炉的核心部件是一个石墨管,试样用
微量进样孔注入石墨管内,经管两端的电极向石墨管供电,最高温度可达
3000℃,试样在石墨管中原子化。
一、原理:是将样品用进样器定量注入到石墨管中,并以石墨管作为
电阻发热体,通电后迅速升温,使试样达到原子化的目的。它由加热电源、
保护气控制系统和石墨管状炉组成。外电源加于石墨管两端,供给原子化
器能量,电流通过石墨管产生高达3000℃的温度,使置于石墨管中被测元
素变为基态原子蒸气。
二、适用范围
三、优点:
1、坩埚材料来源丰富,价格便宜,易于加工成各种形状,生长设备较
简单,建立起来比较容易,
2、更主要的是它适用于某些生长大尺寸高熔点晶体的生长工艺,如垂
直梯度结晶法,热交换法等。这是感应加热难以取代的。(与感应加热相
比较)
3、结构简单一次投资少、升温速度快,工作温度高,占地面积小维修
方便。
4、由于原子化效率高,石墨炉法的相对灵敏度可达10-9-10-12g/ml,
最适合痕量分析。
四、缺点:
1、石墨的污染:用石墨电阻加热,石墨的污染有两个方面,一个是它
所造成的还原性气氛,使某些氧化物晶体在这种气氛下生长时,由于缺氧
而形成氧缺位产生色心,另一个是它本身的挥发对熔体、坩埚或保护材料
的侵蚀。石墨作为一种杂质进入熔体中,在晶体生长时被捕获而形成散射
颗粒。在梯度法生长工艺中,由于坩埚口用钼片盖住,石墨对熔体的污染
要少,再加上晶体是从坩埚底部潮汕在熔体下面由下而上生长,没有机械
震动和熔体激烈流动的干扰,温度波动对它的影响也较小。可以在相对稳
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定的状态下生长,从而获得没有散射颗粒的高质量的晶体。对于生长熔质
分凝系数K1的晶体,可通过调节发热体结构使其具有线性的温度梯度,
并以极其缓慢的降温速率,克服组分过冷的问题。
石墨对坩埚和保温材料的污染,在静态温梯法(垂直梯度凝固法)生
长工艺中更显得突出。
2、生长气氛:
在石墨加热生长晶体的工艺中,发热体本身以及坩埚和保温材料(钨
钼)都很容易氧化,必须在真空中或者在惰性气体的保护下使用。实际上
在高温和一定的电压下,惰性气体会电离。电离活化的气体会与熔体或钨
钼材料起反应而污染熔体,使长出的晶体中产生包裹物,也可以使坩埚或
保温罩和发热体之间打火。轻者将引起温度波动,重则工艺元件被击穿。
3、水汽的影响
H2O和C在高温下也会起反应而侵蚀发热体。所以水汽对石墨加热工艺来
说危害性非常大,它主要来源于发热体,原料或炉壁上吸附的水分,在加热时释
放出来。因此,要充分干燥。
4、与感应炉相比
与感应加热法相比,它是还原性气氛,用于生长某些氧化物晶而会产
生氧缺位而形成色心,某此试剂在还原性气氛中易于挥发,因此不适宜用
此方法。石墨的污染和保护气氛的电离也给这些工世方法带来一些问题。
某些晶体需要在还原性气氛下生长,这就显示出这一工艺方法的长处。
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