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高k材料用作纳米级MOS晶体管栅介质薄层上--第1页
“半导体技术”2008年第一期
趋势与展望器件制造与应用
1-高k材料用作纳米级MOs晶体管51-SiGeHBT低频噪声PSPICE模拟分析
栅介质薄层(上)翁妍,汪辉沙永萍,张万荣
56-逆压电极化效应对AlGaN/GaN异质结
技术专栏(电路设计技术)2DEG特性的影响
6-显示控制CMOS锁相环频率合成器设计李若凡,武一宾,马永强,等
张涛,邹雪城,沈绪榜59-表面处理与离子注人对GaNHEMT
11-高速低功耗钟控比较器的设计肖特基特性的影响
李亮,减佳锋,徐振,等宋建博,杨瑞霞,张志国,等
15-基于TCAD软件的单层多晶EEPROM62-5WSi衬底GaN基HEMT研究
器件模拟分析刘晨晖,冯震,王勇,等
邓勇,宣晓峰,许高斌,等65-槽栅型肖特基势垒静电感应晶体管
19-低功耗高动态范围CMOS图像传感器杨涛,刘肃,李思渊,等
的设计朱青云,卢结成,张小波,等
22-宽调节范围的二级压控振荡器工艺技术与材料
倪丹,戴庆元,叶君青,等68-VDSM集成电路互连特性及
25-基于MC68HC908RF2的RC延迟研究邝嘉,黄河
温度传感器杜吉龙73-磁控溅射的TaN薄膜的扩散阻挡性能
30-用于时钟芯片的Pierce晶体振荡器设计张丛春,刘兴刚,石金川,等
刘惩,李冰77-退火温度对Cu膜微结构与电阻率
35-适用于半速率CDR改进型VCO的设计的影响雏向东,赵海阔,吴学勇
与实现唐世民,何小威,陈吉华,等
39-基于宏模型的同步开关噪声仿真分析封装、测试与设备
蒋历国,施国勇80-QPSK非平衡性调制技术赵夕彬
42-基准电流源的小信号分析与设计83-可重构的低温共烧陶瓷电容高频等效电
冯春涛,冯全源,王错路模型李小珍,邢孟江,朱樟明,等
86-塑封双极型功率晶体管的失效
现代管理与案例分析霍玉杰,陈颖,谢劲松
46-半导体测试调度研究
张智聪,郑力,张涛
高k材料用作纳米级MOS晶体管栅介质薄层上--第1页
高k材料用作纳米级MOS晶体管栅介质薄层上--第2页
趋势与展望
1—高k材料用作纳米级MOS晶体管
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