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去除硅片表面的机械损伤层。对硅片的表面进行凹凸面(金字塔绒面)处理,增加光在太阳电池片表面的折射次数,利于太阳电池片对光的吸收,以达到电池片对太阳能价值的最大利用率。清除表面硅酸钠、氧化物、油污以及金属离子杂质一次清洗的目的单晶硅清洗后的表面形貌绒面结构可降低反射率平坦的硅表面织构化硅表面通常反射率为30%反射率可降至12%硅片插片装进花篮传送清洗甩干测试插片一次清洗机甩干机扩散传递窗清洗工艺操作流程测试货架扩散排风气源柜炉体柜控制柜推舟机构排废口净化操作台总电源进线进气排风排废口扩散的目的:在p型晶体硅上进行N型扩散,形成PN结,它是半导体器件工作的“心脏”;扩散方法:POCl3液体扩散源。扩散的目的P型衬底扩散间操作流程传送插片装片扩散卸片检验刻蚀传递窗测试净化存储柜传递窗装/卸片装/卸片TCA工作台等离子周边刻蚀去除硅片周边的n层,防止短路。工艺方法有等离子刻蚀和激光划边我们采用等离子刻蚀机把周边n层刻蚀掉。周边刻蚀的目的等离子刻蚀过程P型N型装片装夹进料刻蚀出料测试插片二次清洗机甩干机传递窗测试货架传递窗去边去边夹片、测试二次清洗机石英管清洗机刻蚀工艺操作流程刻蚀工位镀膜间二次清洗(去磷硅玻璃)扩散工艺会在在硅片表面形成一层含有磷元素的SiO2,称之为磷硅玻璃(PSG)。它会阻止光吸收,同时又是绝缘的。工艺上采用HF酸腐蚀,所以也称为去PSG。二次清洗(去磷硅玻璃)的目的插片进料清洗出料甩干测试插片二次清洗机甩干机传递窗测试货架传递窗去边去边夹片、测试二次清洗机石英管清洗机二次清洗工位镀膜间二次清洗操作流程PECVD镀减反射膜设备结构示意图减反射原理一次反射R1SiNN-Sin0n1ns二次反射R2目的:通过调整薄膜厚度及折射率,使得两次反射产生相消干涉,即光程差为1/2波长,薄膜的厚度应该是1/4波长的光程。装片进料镀膜出料卸片测试装片传递窗测试净化存储柜传递窗减反射工艺操作流程载板柜卸片印刷PECVD印刷烧结印刷烧结的目的金属接触,收集载流子。背面场,经烧结后形成的铝硅合金,提高转换效率。采用丝网印刷技术。印刷烧结工艺流程工作台印刷烘干印刷烘干印刷烘干工作台工作台烧结测试分选传递窗工作台测试台进料一次印刷烘干二次印刷烘干三次印刷烘干烧结印刷烧结后的电池片测试分选成品测试根据功率进行分档,可同时测量以下电参数:功率、短路电流、开路电压、最佳工作电流、最佳工作电压、填充因子、串联电阻、并联电阻。测试分选的目的工作台印刷烘干印刷烘干印刷烘干工作台工作台烧结测试分选传递窗工作台测试台测试分选操作流程烧结测试分选外观检验包装入库总结-体硅电池的一般工艺流程分选测试PECVD一次清洗二次清洗烧结印刷电极周边刻蚀检验入库扩散光伏组件电池工艺一、光伏行业发展背景光伏行业发展背景1.能源利用随着传统能源如煤、石油和天然气等的逐步衰竭,全球能源危机日益严重。太阳能作为清洁、安全、取之不尽的可再生能源,在今天和未来的世界能源领域中起着越来越重要的作用。光伏行业发展背景2.清洁能源光伏行业发展背景3.便利供电目前,国家电网尚不能覆盖到边远偏僻的地区,可以在这些地方建立光伏发电站,解决周边居民用电问题。太阳能:解决世界能源危机的最佳出路太阳能:建设美好地球家园的最佳选择光伏行业:前景最值得期待的行业4.光伏行业的定位光伏行业发展背景二、光伏行业发展状况光伏行业发展状况1.晶体硅太阳能电池技术发展1941年,美国工程师RussellOhl发现硅凝固时由于杂质分凝效应会形成自然的pn结,这种结构会产生很好的光电响应,利用这个发现制作了第一块硅太阳电池。1954年贝尔实验室的三位研究员GeraldL.Pearson,DarylM.Chapin和CalvinS.Fuller制作出了最早的现代结构的晶体硅太阳能电池。第一阶段:起步阶段光伏行业发展

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