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Se75射线源的主要参数及曝光公式--第1页

Se75射线源的主要参数及曝光公式第1页共5页

Se75射线源的主要参数及曝光公式

摘要:通过对Se75特性的分析和试验,得出了Se75的主要参数平均能量、透照厚度、半值

层及透照曝光量经验公式。

主题词:能量、透照厚度、半值层、曝光量

目前工业射线照相中常用的射线源有X射线、γ射线,由于各自的缺点而存在一

定的局限性,如X射线能量低、穿透力弱、透照宽容度小、现场条件制约性大,Ir192、

Co60等γ射线线质硬、透照灵敏度低、透照厚度下限值较大等。九十年代末,一种

名叫Se75(硒)的γ射线源在工业射线照相中得到应用,它可以较好地解决上述局

限性。但查阅大量文献及有关资料均未发现一些实用性的参数及曝光量公式,使得实

际使用时很不方便。本文通过对该射线的特性分析及大量的试验,得出了平均能量、

半值层、透照厚度等重要参数及曝光量的经验公式。

一.Se75射线特性:

Se75(质量数为75,其中质子数为34,中子数为41)是一种人工放射性同位

素,由中子俘获反应所得(说明:这种反应是反应堆中放射性同位素最普遍常用的反

应,将封装在适当容器中的元素或其化合物,在反应堆中受中子照射,取出后即可直

4

接应用或经过化学处理后使用)。半衰期120.4天,比活度1.45*10Ci/g,衰变方式

2

为轨道电子俘获,衰变常数Kr为2.04R.cm/h.mCi,γ当量为0.24毫克镭/毫居里,

主要能线谱9根,相应能量为(MeV):0.066、0.097、0.121、0.136、0.199、0.265、

0.280、0.304、0.401。Se75反应过程如下:

n,γEC

74Se75Se75As

σ=30b120.4d

(式中:n:中子,γ:γ射线,σ:核反应的中子俘获截面,b:截面单位(靶),

EC:轨道电子俘获,d:天)

Se75在不同活度下可制成的射源尺寸见表一。

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Se75射线源的主要参数及曝光公式--第2页

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表一:不同活度下射源尺寸

射源尺寸(mm)活度(Ci)

1.0×1.02.5

1.5×1.510

2.0×2.022

2.5×2.545

3.0×3.080

二.Se75能线的平均能量

我们平时在选择射线源时的一个重要依据是该射线的穿透能力如何,而决定穿

透能力的就是该射线的能量。由于

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