Nikon 光刻机焦平面的优化设计.docx

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2024-09-19 发布于湖北
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Nikon光刻机焦平面的优化设计

摘要

在集成电路的制造加工过程中，最为关键的是光刻技术和光刻工艺设备。本次设计为Nikon光刻机焦平面优化设计，一方面通过对Nikon光刻机的调焦调平系统的研究,对晶片表面相对于投影透镜焦平面的高度和倾斜差进行调焦测平测量，并使之聚焦调平，使晶片整个平面都位于有效景深范围内，对误差进行有效的补偿，提升设备的曝光能力，提升质量；另一方面又在焦平面有保证的情况下对产品的局部Defocus问题，以INC的调整优