光刻机技术全景报告 2024.pptx

专利概况

专利趋势

展示该技术领域逐年公开的专利申请量、授权量及对应授权率(当年申请的专利授权量/当年申请量)。申请量较多的年份为该技术领域热度较高的年份,申请趋势上升可以反映该技术领域研发投入呈上升趋势。由于发明授权的周期长,专利公开具有延后性,因此近2-3年的申请量和授权率可能偏低。

申请年

类型

申请

授权

授权占比

2015

全部

644

382

59.32%

2016

全部

676

412

60.95%

2017

全部

692

403

58.24%

2018

全部

918

567

61.76%

2019

全部

1105

701

63.44%

2020

全部

1504

893

59.38%

2021

全部

1682

860

51.13%

2022

全部

1859

652

35.07%

2023

全部

2040

621

30.44%

2024

全部

631

73

11.57%

星河智源助力科技创新提升创新质量促进成果转化

专利类型

展示该技术领域的专利类型分布,发明和实用新型是功能、结构上的创新,外观设计是对产品外观的创新。—般发明占比越高,则创新程度越高;实用新型侧重产品的小改进;产品种类多、更新换代快的行业外观设计偏多。

类型

数量

发明专利

13717

实用新型

2483

外观设计

72

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法律状态

专利有效性为有效的专利可以用于维权,失效专利技术不再受法律保护,审中专利可以受临时保护,授权后再维权。失效原因反映主体的技术水平、管理水平等。

法律状态

数量

有效

7583

无效

4556

在审

4133

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技术生命周期

展示专利申请量与专利申请人数量随时间的推移而变化的情况。分析当前技术领域生命周期所处阶段,推测未来技术发展方向。如随时间增长,申请量和申请人数量都大幅提升,表明该专利技术处于增长期。由于专利公开的延后性,近两年的申请量和申请人数量可能偏低。

申请年

申请量

申请人数量

2015

644

258

2016

676

255

2017

692

308

2018

918

373

2019

1105

448

2020

1504

611

2021

1682

763

2022

1859

848

2023

2040

930

2024

631

412

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专利申请中国省市分布

展示该技术领域在中国各省市的专利申请量分布。申请量较大的区域,该地区通常有相关技术集群,相关技术的研究较为先进。颜色越深表明申请量越多,鼠标定位到右侧,颜色条会显示对应的申请量,地图中相应申请量的区域也会高亮。

地域

申请量

上海

3866

江苏

2005

北京

1692

广东

1593

浙江

847

安徽

781

四川

624

湖北

598

陕西

456

黑龙江

398

山东

326

吉林

317

福建

237

天津

203

湖南

202

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重庆

150

江西

109

河北

94

河南

84

广西

70

山西

68

甘肃

44

云南

41

中国台湾

20

贵州

13

内蒙古

8

海南

8

中国香港

7

宁夏

6

新疆

4

青海

1

辽宁164

技术分析

技术构成

展示该技术领域主要技术分支的专利分布。专利量较多的技术分支,创新热度相对较高,当前技术领域的空白点可能是潜在机会。

分类号

定义

专利数量

G03F7/20

.曝光及其设备(复制用照相印制设备入G03B27/00)[2006.01]

5011

G03F9/00

原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位,例如自动地(G03F7/22优先;照相蒙片的制备入G03F1/00;在复制用的照相印片设备中的入G03B27/00)[2006.01]

880

G03F7/00

图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺 ;图纹面照相制版用的材料,如：含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备(用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置,例如,B44c,H01L,例如,H01L21/00,H05K)[2006.01]

479

H01L21/027

..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进—步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜[2006.0