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文章编号：
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高密度等离子体刻蚀机中的终点检测技术
王(巍，叶甜春，陈大鹏，刘(明，李(兵
（中国科学院(微电子研究所，北京(!)）
(
摘(要：(高密度等离子体刻蚀是当今超大规模集成电路制造过程中的关键步骤。目前已经开发
出许多终点检测技术。文章讨论了终点检测技术的原理，综述了目前主流刻蚀机使用的两种终点
检测技术—,-.和/-0—的必威体育精装版进展，讨论了终点检测技术在深亚微米等离子体刻蚀工艺中的
应用，以及所面临的挑战。
关键词：(等离子体；刻蚀工艺；终点检测；,-.；/-0
中图分类号：(12’+文献标识码：(3
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(
（10），以及电子自旋共振等离子体（-V）等。这
(引(言些源所产生的等离子体具有较高的刻蚀速率，如果
工艺控制不合理的话，出现的过度刻蚀很容易造成
随着集成电路中器件集成密度及复杂度的不断
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