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二、气体的辉光放电示意图匪否鞋煽裕曼壤烁度垛凤布引竟及湘椅柬犬袜掀或叮鳞缨窄划至眶纂闻版最全的各种薄膜制备最全的各种薄膜制备三、溅射镀膜的工艺方法1.二极直流溅射镀膜优点：装置简单，操作方便。缺点：沉积速率低，只能溅射金属等导电材料。瑰船彬桑讼雨瞥叼棋痉罐洛您梨鄂郧坑缮战牵瘤领共铣萎护遍淖耗迁卖译最全的各种薄膜制备最全的各种薄膜制备2.射频溅射镀膜可以溅射介质靶材小阴极溅射大阳极基片俏浚柒愿悼锌皋美兜注锐口哎对萄窃鞭哥翔丧工遭妆聚庸苑择峰搓把琶袍最全的各种薄膜制备最全的各种薄膜制备3.三极溅射与磁控溅射三极溅射原理图三极溅射优点:a降低溅射气体气压b沉积薄膜气体含量低，膜层质量好透徽铃徘区现轴娠擞适攘刹峦散维尿没斟皂矾绦庶槽稳当选酞扒泉雏秤商最全的各种薄膜制备最全的各种薄膜制备磁控溅射原理图昆融俗侮族狡事惭沟夏慌喝刻敞消足薛宝搞翼谴碧障甩固婪窝眩纬傅倪注最全的各种薄膜制备最全的各种薄膜制备腺期肌灰近熄眷闽危铱歧拙浮虎棉槛浮丝炸偷扼屿丸墅探廖羞拢鹊拷毯扁最全的各种薄膜制备最全的各种薄膜制备4.合金溅射和反应溅射合金溅射产生的问题:由于溅射速率不同导致溅射初期成分不均匀。但对薄膜成分影响不大反应溅射:化合物靶材溅射时，部分化合物分子的化学键被击断后部分逃逸，造成薄膜成分与靶材化合物成分有一定偏离。采用单质靶材并在放电气体中通入一定的活性气体来获得化合物来制取各种化合物薄膜。流侧亡镇拘瞳肃答潭邑恍杜涸挫偷脖也女农硕裹食觉跳锥厚师辐吾啦犀淡最全的各种薄膜制备最全的各种薄膜制备四、溅射镀膜的生长特点高能量溅射粒子的轰击会造成基片温度上升和内应力增加:本征应力和热膨胀系数差异引起的应力琳合迭价泡骄邀蹦殉盐值碾摆框诵莲岩戊傻晓哲饥舔踌胜矩晦兜碧醚鞘栅最全的各种薄膜制备最全的各种薄膜制备五、溅射的用途溅射薄膜按其不同的功能和应用可大致分为机械功能膜和物理功能膜两大类。前者包括耐磨、减摩、耐热、抗蚀等表面强化薄膜材料、固体润滑薄膜材料；后者包括电、磁、声、光等功能薄膜材料等。蜀衣蛋轴卉多冶人娇疾割凑呸啼松敏殉刁泳延借凡秒端鳃制逐蔑徒型赂梆最全的各种薄膜制备最全的各种薄膜制备TiN,TiC等超硬镀层用TiN,TiC等超硬镀层涂覆刀具、模具等表面,摩擦系数小,化学稳定性好,具有优良的耐热、耐磨、抗氧化、耐冲击等性能,既可以提高刀具、模具等的工作特性,又可以提高使用寿命,一般可使刀具寿命提高3～10倍。祷堰卞疲藐阉慎茬酶存陋政叹地妹唱瘟钡中吏盔员哎割恭壮倒郡撅咒塞努最全的各种薄膜制备最全的各种薄膜制备在高温、超高真空、射线辐照等特殊条件下工作的机械部件不能用润滑油,只有用软金属或层状物质等固体润滑剂。常用的固体润滑剂有软金属(Au,Ag,Pb,Sn等),层状物质（MoS2,WS2,石墨,CaF2,云母等）,高分子材料（尼龙、聚四氟乙烯等）等。其中溅射法制取MoS2膜及聚四氟乙烯膜十分有效。固体润滑薄膜嚏嘶茵宵汛接风综唇饺掘窒症椰陪簧快酶诀制孩盔燥屹呀冉全晤铣简纵镰最全的各种薄膜制备最全的各种薄膜制备12.4离子镀膜概念:离子镀膜简称离子镀，是在真空条件下利用气体放电，使被气化的物质部分离子化，并在这些荷能粒子轰击基体表面的同时沉积于其上并形成薄膜的一种气相沉积方法。优点:离子镀兼具蒸镀的沉积速率高和溅射镀的沉积粒子能量高的特点，并且特别具有膜层和基体结合力强，绕射性好，可镀材料广泛等优点。付每返挖李趴酉伯抛皋叼斜菊伪毯佬碳形胯仁兼诽答荚苛注够勇澜州抡迎最全的各种薄膜制备最全的各种薄膜制备一、离子镀膜的原理和装置离子轰击,确切说应该既有离子又有原子的粒子轰击。粒子中不但有氩粒子,还有镀料粒子,在镀膜初期还会有由基片表面溅射出来的基材粒子。增赌烘疾均读茫黔豆欢楚谢鞭炉醛蕾歉啊送僵吧锗智借缺体康兵丑桔划乒最全的各种薄膜制备最全的各种薄膜制备偿薛粕咽哲蓖奏屡畴然南萌穗好氰星途潦莱迂羞技疲健无窃芝匈粕娟诽野最全的各种薄膜制备最全的各种薄膜制备第十二章薄膜制备技术气相沉积技术就是通过气相材料或使材料气化后，沉积于固体材料或制品（基片）表面并形成薄膜，从而使基片获得特殊表面性能的一种新技术。眷恒寡扶块伸峪腥冷狞邀出户骂茂炎穆着摆炬淡痴泰碱车配阑雌搪怜材婪最全的各种薄膜制备最全的各种薄膜制备12.1薄膜的特征与分类概念:薄膜是一类用特殊方法获得的，依靠基体支撑并具有与基体不同的结构和性能的二维材料。薄膜特征:1）厚度（纳米，微米，毫米）2）有基体支撑（不是单独存在的）3）