日本半导体材料现状.pptx

日本半导体材料现状

SemiconductorMaterialsinJapan

2024年8月23日;

1.概述

2.光刻胶

3.硅晶圆

4.环氧塑封料

Forfulldisclosureofrisks,valuationmethodologiesandtargetpriceformationonallHTIratedstocks,pleaserefertothelatestfullreportonourwebsiteat;

材料;

1.概述

2.光刻胶

3.硅晶圆

4.环氧塑封料

Forfulldisclosureofrisks,valuationmethodologiesandtargetpriceformationonallHTIratedstocks,pleaserefertothelatestfullreportonourwebsiteat;

光刻胶体系;

根据日本财务省2022年4月的数据，目前日系厂商在世界光刻胶市场上的份额占比约为90%，分别为JSR26%，东京应化25%，信越化学16%，住友化学13%，富士胶片10%。而在最先进的EUV光刻胶市场上，东京应化、信越化学、JSR、住友化学则占据了几乎全部的市场份额。

图：光刻胶市场份额

其他,10%;

一直以来半导体工业使用的光刻胶均为聚合物光刻胶，这些光刻胶也被称为化学增幅型光刻胶（ChemicallyAmplifiedResists:CAR），其原理是吸收光并产生质子（酸），从而改变聚合物在蚀刻溶液中的溶解度。然而，聚合物光刻胶在10nm级别时遇到了问题。到目前为止，几十nm级的线条图案规则都是基于使用发射波长为160nm左右的浸入式ArF光源的光刻技术，这在聚合物材料的光吸收和反应范围内。然而，在EUV下，波长是13.5nm，传统的有机聚合物对这些超短波难以产生良好的反应。另外，当线宽幅度达到10nm左右时，即使做出图案，也会发生抗蚀墙壁面塌陷或者粘连不稳定等问题。直观地讲，在10纳米水平上，要在缓慢溶解的系统中保持半导体内的LWR、LER等互连相关值的稳定性和低变异性极为困难。;

为了解决这个问题，ASML转向了Inpria公司生产的一种含有无机材料的光刻胶。这种光刻胶具体成分不详，但根据研究显示是一种有机-无机混合物，核心是铪-锆纳米粒子。铪和锆吸收短波的效率较低，而对短波的反应效率较高，并且因为材料含有无机物并呈现刚性，蚀刻后的蚀刻墙壁面不会塌陷（能够保持较高的纵横比）。此外，它不像CAR那样依赖于???的扩散，因此LER等不容易恶化。Inpria公司已被日本公司JSR全资收购，目前该无机光刻胶依然处于验证阶段。

图：无机光刻胶材料组图：无机光刻胶反应原理;

根据SEMI和WSTS的数据，单位晶圆面积所消耗的光刻胶金额已经从2015年3月不到0.12美元/平方英寸上升到2021年9月约0.19美元/平方英寸，每平方英寸所耗光刻胶金额呈不断上升之势。2022年全球半导体光刻胶市场规模为26.4亿美元，预期2030年全球市场规模将增长至45亿美元，年均增长率6.9%。

图：单位晶圆面积所消耗的光刻胶金额不断上升图：全球半导体光刻胶市场规模（亿美元）;

东京应化(4186.JP)是一家总部位于日本的世界半导体光刻胶龙头公司，成立于1936年，历史上曾创造过多项日本业界第一。公司1997年开发出KrF光刻胶，2001年推出ArF光刻胶，2018年推出EUV光刻胶，是目前世界上少数有能力提供全品类半导体光刻胶的公司之一。根据公司报告，公司在世界半导体光刻胶市场的份额在2023年底为23.1%，居世界第一位。2023年12月财年，公司营业收入为1623亿日元，同比减少7.5%；营业利润227亿日元，同比减少24.8%，营业利润率为14.0%。公司预计，2024年12月财年营收为1934亿日元，同比增加19.2%，营业利润293亿日元，同比增加29.0%，营业利润率提升至15.1%。

图：营收及增长率图：营业利润及营业利润率;

东京应化的营业收入按业务领域可以分为电子功能材料、高纯度化学品、其他，