氮化镓基器件辐照可靠性研究.docx

  1. 1、本文档共24页,其中可免费阅读8页,需付费200金币后方可阅读剩余内容。
  2. 2、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。
  3. 3、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
  4. 4、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多

氮化镓基器件辐照可靠性研究

绪论

GaN基器件辐照可靠性研究现状和应用前景

近些年来,随着集成电路的不断大规模化以及对于高温、高频率、抗辐照、大功率器件的迫切需求,第三代半导体发展迅速。由于第三代半导体具有禁带宽度大、击穿电场强度高、饱和电子漂移速率大、电子迁移率高、热导率高、热稳定性优良等前两代半导体所不具备的更加优异的性能和其对微电子领域新兴产业发展的巨大推动力,许多西方发达国家不惜投入巨资来支持第三代半导体及其相关器件的发展。因此,在这样的大潮流背景下,我国在加速发展集成电路产业(包括极大规模集成电路)的同时,也将第三代半导体及其器件的发展作为重要的国家战略目标[[]王龙兴.中国半导体

文档评论(0)

瀚海文化 + 关注
实名认证
内容提供者

创造文章的海洋,感受知识的魅力

1亿VIP精品文档

相关文档