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摘要
本文设计了一种基于差分光栅光场放大单场扫描式位移测量技术,可用于
纳米级位移测量。该技术利用两个周期略有不同的光栅(例如,分别为1.5μm
和1.7μm)实现光场的显著放大,最大放大倍数可达7.8倍。提出光强位移检测
和图像检测两种方案来测量两个光栅间的相对位移,分别以仿真验证光强位移
检测模式和实验验证图像位移检测模式,分辨率分别达1.5nm和9.8nm。
根据单层光栅泰伯效应原理,在第一个光栅(G)后面被平面波照射时,可
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