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镀膜机操作步骤--第1页

注意：

1.清洗前，看片子是否短路，是否大小与样品托合适，蒸镀时放

样品托的架子升最高，且旋转。

2.打开电流开关，及时打开ABC舟中一个，打开束源炉，及时

打开其中一个启动A、B等。

3.掺杂材料用量覆盖舟底即可。

操作步骤：

1、打开总开关，包括冷却水开关和机器开关。

2、打开镀膜机总开关，样品旋转开关，升降开关按钮。

3、将玻璃基板至于样品托中，导电一面向下。

4、蒸镀室、预处理室放气。

5、打开蒸镀室与预处理室之间的闸板阀（顺时针方向关，逆时针方

向开），推拉杆推至大真空室中，将样品放到推拉杆上，将推拉杆拉

回至预处理中。关闭闸板阀（顺时关闭，逆时针开）

6、打开快门控制电源，打开快门一，更换钨丝（每做一次实验更换

一次），将铝丝挂在钨丝上（5个，挂于弯折处），检查蒸镀所需材料。

7、将掩膜版放置于掩膜版架上。

8、打开机械A、机械B泵。打开四个真空计，关闭放气阀。

9、基片预处理（打开角阀）：当处理室真空度达到4.0E1(4.0×10)Pa

时关闭预角阀，打开大真空室角阀，再打开紫外轰击电源（直流溅射

电源），调节电流0.025-0.030A。轰击10-15分钟（等预处理室与蒸镀

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。

10、插入样品托：再次打开蒸镀室与预处理室之间的闸板阀（顺时针

方向开，逆时针方向关），将样品传送至蒸镀室，用机械手抓取样品

托，并保持在机械手上；然后将将推拉杆拉回至预处理中，关闭闸板

阀；降低蒸镀台（注意样品托挡板位置）与机械手平齐，将样品托轻

轻推入蒸镀台下方的样品托导引槽（上方导引槽）。

11、插入掩模板：将样品升降电源调到手动，将蒸镀台旋转180度（用

皮带精确定位），用升降盒使蒸镀台最下方的掩模板导引槽与掩膜版

库轨道，至于同一水平线上，用机械手将掩膜版轻轻推至蒸镀台的掩

模板导引槽。

12、当大真空室的压强为1.2E1的时候，关闭角阀，打开闸板阀。

13、关闭机械泵A，升起样品台。

14、打开分子泵。抽到6.0-6.5E-4（大概需要两个小时）。

15、蒸镀过程：打开快门总开关，晶振开关（F1是清零，F5是开始

或停止）。

16、打开PID（束源炉）开关，调节温度，依次蒸镀相关材料，制备

OLED器件。

17、关闭分子泵阀门，放气（真空室顶部放气按钮）。打开真空室，

取出样品。

18、关闭真空室，待分子泵数字为零时关闭分子泵后关闭机械泵B，

打开机械泵A的阀门，打开机械泵A抽低真空。

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镀膜机操作步骤--第3页

以ITO/NPB/Alq3:C545T/Alq3/LiF/Al

快门123456789101112

材料AlMoOLiFAlqNPBDCTBC545TA2T-

JTPeDNAT

BNA

炉子ABCABCDEF