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溅镀原理与应用.ppt

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    **physicalvapordeposition

    PVD,物理气相沈积法溅镀法是利用高速粒子去撞击靶材，使被撞击而溅射出的具有5～10eV高能量的粒子在标的物上堆积而形成薄膜的方法，溅镀(sputtering)法利用高能量的惰性气体（例如氩）的离子去冲击当成靶材的薄膜母材，使母材飞溅出来，堆积在玻璃或硅的基板上而形成薄膜。*溅镀原理与应用*溅镀原理与应用1.真空概论2.真空设备介绍3.溅镀原理简介4.应用5.结语*真空概论*真空的发现义大利人托里切利（Torricelli)，将装满水银的试管倒置，水银自然下降至760mm高

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